Mejore el rendimiento de la fabricación de productos electrónicos con Openair-Plasma®

En la fabricación de productos electrónicos, el tratamiento de superficies es esencial para garantizar una fuerte adhesión entre materiales diferentes, mejorar la humectabilidad del recubrimiento y mantener la fiabilidad a largo plazo. La tecnología Openair-Plasma® de Plasmatreat ofrece un tratamiento de superficies por plasma preciso, selectivo y capaz de funcionar en línea a presión atmosférica, sin necesidad de cámaras de vacío ni imprimaciones químicas.

Variedad de aplicaciones

Information &
Información y asesoramiento

Descubra cómo nuestra tecnología Openair-Plasma® puede optimizar sus procesos. Le apoyamos desde la idea inicial hasta la implementación con éxito, de forma individual, innovadora y sostenible.

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The introduction of Openair-Plasma® was a milestone in the development of our sensor production.

Dr. Tobias Eckert, Head of Potentiometer Technology Centre, Novotechnik Messwertaufnehmer OHG

Ventajas de la tecnología Openair-Plasma®

  • Selectiva: activación y desactivación sobre la marcha Limpieza superfina (limpieza de componentes) sin dañar las estructuras delicadas Funcionalización selectiva de superficies para su procesamiento selectivo adicional Respetuosa con el medioambiente: no se necesitan productos químicos húmedos Rentable: funciona con aire comprimido sin aceite Integración en la producción: no afecta al tiempo del proceso, ya que el proceso de plasma tarda menos que el proceso de recubrimiento de conformación

Proceso Openair-Plasma®

Openair-Plasma® se utiliza tanto para modificar las características superficiales como para mejorar la adhesión de materiales (como recubrimientos) al sustrato (PCB). Elimina todas las impurezas orgánicas y derivadas de la silicona. El oxígeno en forma de grupos hidroxilo y cetona se incorpora a las superficies no polares para activar la superficie. El resultado es una gran energía superficial (más de 72 mN/m) y, en la mayoría de los casos, una humectabilidad completa.

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