Nano-limpieza de obleas de silíceo con plasma atmosférico
El primer componente en la fabricación de la oblea es un bloque de material semiconductor. Primero se corta (aserrado), y luego se pule químicamente / mecánicamente hasta que se alcanza, en la superficie, la rugosidad requeridade unos pocos nanómetros.
Oblea pulida y tratada con plasma
En el siguiente paso se utiliza, como un método muy eficiente y simple, el Openair® Plasma para una buena limpieza de estas nano-estructuras. Se eliminan al 100% todos los hidrocarburos y las partículas. Se puede reducir significativamente la tasa de errores gracias a la limpieza con Openair® Plasma.
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