Glosario: O
- OAUGDP
- (Abr. de inglés: „One Atmosphere Uniform Glow Discharge Plasma“) – plasma homogéneo de descarga luminescente en condiciones atmosféricas.
- Oblea de silicio
- La oblea de silicio cristalino es el elemento más esencial para el funcionamiento de todos los dispositivos semiconductores. Tiene un diámetro hasta 300 mm y tiene una amplia aplicación en la tecnología de la microelectrónica.
- Oxidación
- La oxidación es una reacción química en la que un metal o un no metal cede electrones, o adquiere átomos de oxígeno. El estado o número de oxidación se define como la suma de cargas positivas y negativas de un átomo, lo cual indirectamente indica el número de electrones que el átomo ha aceptado o cedido. El estado de oxidación es una aproximación conceptual. Unos ejemplos de reacciones químicas de oxidación son: hidrógeno + oxígeno = agua, silicio + oxígeno = óxido de silicio, aluminio + oxígeno = óxido de aluminio etc. Cuando los metales se combinan con el oxígeno forman óxidos básicos.
- Óxido superficial
- Por su contacto con el oxígeno de la atmosféra la mayoria de los metales están cubiertos por una capa delgada de óxido, que también sirve como protección y disminuye o evita la oxidación total del metal. Por esta razón algunos metales tienen gran estabilidad química y son resistentes a la corrosión (cromo), mientras otros se oxidan más rápido (aluminio). A veces, aumentando la capa de óxido se logra mejorar la resistencia a la corrosión. A través de tratamiento por plasma esta capa se puede eliminar completamente, por lo que aumenta la energía superficial del metal y la prepara para procedimientos a continuación.
- Óxido de aluminio
- El óxido de aluminio (Al2O3) se encuentra en diversas modificaciones en la naturaleza, de las cuales el mineral corindón posee la dureza más alta. Al entrar en contacto con el oxígeno del aire se genera una capa transparente de Al2O3 sobre la superficie de aluminio, la cual la protege de una oxidación más profunda. El efecto protector de la capa de óxido de aluminio se refuerza a través de anodización. Sobre las superficies de Al2O3 se puede aplicar un grabado mediante plasma con iones de Argón o gases que contengan halógenos.
- Oxígeno
- El plasma de oxígeno tiene excelentes propiedades químicas. En la mayoría de los procesos de plasma se utiliza el oxígeno como gas de trabajo.
